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ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設備的加熱和冷卻。
ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設備的加熱和冷卻。
ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設備的加熱和冷卻。
ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設備的加熱和冷卻。
ZT-系列密閉制冷加熱循環(huán)裝置是能提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作溫度范圍廣(-80℃-300℃),廣泛用于制藥、石化、生物、化工等行業(yè)中反應釜、槽等裝置的冷卻和加熱,也可以用于其他設備的加熱和冷卻。